企業(yè)專利戰(zhàn)略是企業(yè)專利工作的綱領(lǐng)，其必須能夠指導(dǎo)企業(yè)專利工作的方方面面，涵蓋專利創(chuàng)造、運用、保護(hù)和管理各方面的策略和手段。企業(yè)專利戰(zhàn)略應(yīng)當(dāng)包含以下要素：戰(zhàn)略背景、戰(zhàn)略思想、戰(zhàn)略目標(biāo)、戰(zhàn)略措施和戰(zhàn)略步驟，而每一要素又必須涉及專利創(chuàng)造、運用、保護(hù)和管理幾個方面。
1. 戰(zhàn)略背景
戰(zhàn)略背景即制定和實施企業(yè)專利戰(zhàn)略的內(nèi)外部環(huán)境。企業(yè)內(nèi)部環(huán)境是企業(yè)可以控制或改變的環(huán)境。企業(yè)外部環(huán)境則是企業(yè)無法控制的，但對戰(zhàn)略的實施卻具有極大影響的環(huán)境。
（1）企業(yè)內(nèi)部環(huán)境
企業(yè)內(nèi)部環(huán)境涉及企業(yè)基本狀況和企業(yè)專利狀況。前者包括企業(yè)組織結(jié)構(gòu)狀況、企業(yè)管理狀況、企業(yè)資源狀況、企業(yè)經(jīng)營戰(zhàn)略、企業(yè)經(jīng)營狀況、企業(yè)技術(shù)狀況、企業(yè)核心技術(shù)或關(guān)鍵技術(shù)、企業(yè)技術(shù)發(fā)展目標(biāo)、企業(yè)業(yè)務(wù)構(gòu)成和企業(yè)文化狀況等；后者包括企業(yè)專利申請狀況、專利授權(quán)狀況、專利運用狀況、專利保護(hù)狀況、專利意識狀況、專利管理制度和管理人員狀況、商業(yè)秘密保護(hù)狀況、專利工作與經(jīng)營結(jié)合狀況等。
（2）企業(yè)外部環(huán)境
企業(yè)外部環(huán)境涉及法律環(huán)境和行業(yè)狀況。前者包括國際國內(nèi)專利立法狀況、專利政策法規(guī)狀況、專利執(zhí)法狀況等；后者包括國際國內(nèi)行業(yè)專利狀況、行業(yè)技術(shù)狀況、行業(yè)競爭狀況、行業(yè)變化趨勢、行業(yè)結(jié)構(gòu)、行業(yè)經(jīng)營特征、行業(yè)發(fā)展前景等。
2. 戰(zhàn)略思想
戰(zhàn)略思想是在戰(zhàn)略背景基礎(chǔ)上進(jìn)行戰(zhàn)略分析后得出的分析結(jié)論。
戰(zhàn)略思想是全局性的觀念，是戰(zhàn)略分析和戰(zhàn)略方案確定全過程的靈魂，其包括專利狀況的總體定位、專利戰(zhàn)略的總體戰(zhàn)略思想，以及專利工作的策略。
（1）總體定位
總體定位是對專利狀況的總體評估，也是企業(yè)專利戰(zhàn)略制定與實施所基于的總體基礎(chǔ)。比如，企業(yè)專利工作現(xiàn)狀所處的階段、企業(yè)專利狀況處于強勢還是弱勢、企業(yè)適合采用進(jìn)攻型策略，還是防守型策略或是進(jìn)攻與防守相結(jié)合的策略、開拓型策略還是追隨型策略等。
（2）總體戰(zhàn)略思想
總體戰(zhàn)略思想是制定與實施專利戰(zhàn)略所應(yīng)遵循的基本原則。比如，怎樣定位企業(yè)的專利工作；怎樣開展創(chuàng)造類、運用類、管理類和保護(hù)類專利工作；怎樣將專利工作與企業(yè)改革和機制創(chuàng)新、結(jié)構(gòu)調(diào)整和技術(shù)創(chuàng)新、市場開拓和品牌建設(shè)相結(jié)合；怎樣應(yīng)對政策和制度變革、技術(shù)競爭、市場變化等企業(yè)外部環(huán)境的變化；如何在行業(yè)內(nèi)確立與維持本企業(yè)的競爭地位；如何在企業(yè)內(nèi)部建立協(xié)調(diào)一致和相互促進(jìn)的工作機制；怎樣進(jìn)行專利的國內(nèi)布局和海外布局等。
（3）工作策略
工作策略則是戰(zhàn)略思想的細(xì)化，是按照專利創(chuàng)造類、運用類、保護(hù)類和管理類工作類別提出的各種工作的策略。比如，專利開發(fā)的策略、專利申請的策略、專利實施的策略、專利維權(quán)的策略、專利防御的策略等。
3. 戰(zhàn)略目標(biāo)
戰(zhàn)略目標(biāo)是基于戰(zhàn)略分析所提出的戰(zhàn)略實施要達(dá)到的目標(biāo)。其包括總體目標(biāo)和階段目標(biāo)，可以是行為目標(biāo)、功能目標(biāo)和數(shù)量目標(biāo)，比如，專利制度體系建設(shè)目標(biāo)、專利申請目標(biāo)、專利服務(wù)體系建設(shè)目標(biāo)、專利信息利用目標(biāo)、專利經(jīng)營目標(biāo)、專利培訓(xùn)目標(biāo)。還可以是按照專利工作類別確定的工作目標(biāo)。
4. 戰(zhàn)略重點
戰(zhàn)略重點是實現(xiàn)戰(zhàn)略目標(biāo)所需要解決的突出問題和重大問題，其包括重點工作、重點產(chǎn)品、重點技術(shù)和重點機構(gòu)等。比如，重點工作是專利創(chuàng)造、專利保護(hù)，還是專利經(jīng)營。
5. 戰(zhàn)略措施
戰(zhàn)略措施是保障專利戰(zhàn)略有效實施的戰(zhàn)術(shù)和手段。戰(zhàn)略措施由一系列相關(guān)的戰(zhàn)術(shù)手段構(gòu)成，其既包括創(chuàng)造類、運用類、保護(hù)類和管理類的各種手段，也包括實施戰(zhàn)略的物質(zhì)保障與支撐條件。比如，組織管理、機構(gòu)設(shè)置、人員配備、規(guī)章制度、信息保障、資源配置、硬件配備、企業(yè)文化等多方面的手段與條件。
6. 戰(zhàn)略步驟
戰(zhàn)略步驟是實現(xiàn)戰(zhàn)略目標(biāo)和落實戰(zhàn)略措施的方法步驟和實施方案。戰(zhàn)略步驟是戰(zhàn)略措施的具體化，其包括各項工作的實施內(nèi)容、實施時間、實施條件和保障措施、實施效果的考核方式等。
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